삼성전자와 SK하이닉스가 중국 반도체 공장에 미국산 장비를 반입할 때마다 개별 허가를 받아야 할 위기를 넘겼다. 미국 정부가 포괄적 허가인 '검증된 최종 사용자(VEU)' 지위를 취소하는 대신, 연간 단위로 장비 반출을 승인하는 방식으로 규제를 완화했기 때문이다.

30일 업계에 따르면 미 상무부 산업안보국(BIS)은 삼성전자와 SK하이닉스 중국 공장에 대해 매년 필요한 장비·부품 목록을 사전 심사해 일괄 승인하는 제도를 도입하기로 했다. 

이에 따라 양사는 내년 장비 반입 계획에 대한 승인을 이미 확보한 것으로 전해졌다. 다만 중국 내 공장 확장이나 업그레이드를 위한 장비 반출 제한은 유지된다.

[미니해설] 미국, 삼성·SK 中반도체공장 장비반입 규제완화

삼성전자와 SK하이닉스가 중국 반도체 공장 운영을 둘러싼 '허가 리스크'에서 한숨을 돌리게 됐다. 미국 정부가 두 회사 중국 공장에 부여했던 VEU 지위를 공식적으로는 취소하면서도, 실제 운영 측면에서는 연간 단위 일괄 승인이라는 완충 장치를 마련했기 때문이다. 자칫하면 장비 한 대, 부품 하나를 들여올 때마다 미국 정부의 개별 허가를 받아야 하는 상황으로 내몰릴 뻔했지만, 최악의 시나리오는 피했다는 평가가 나온다.

그간 삼성전자 시안 낸드 공장과 SK하이닉스 우시 D램·다롄 낸드 공장은 VEU 지위를 바탕으로 비교적 안정적으로 미국산 장비를 반입해 왔다. 그러나 지난 8월 말 BIS가 이들 중국 법인을 VEU 명단에서 제외하겠다고 밝히면서 긴장감이 급격히 높아졌다. 관보 고시 이후 120일 유예기간이 끝나는 이달 말부터는 장비 반입 건마다 개별 허가를 받아야 했기 때문이다. 업계에서는 연간 허가 신청이 1000건에 이를 수 있다는 관측까지 나왔다.

미국 정부가 선택한 대안은 '연간 사전 승인' 방식이다. 기업이 1년 동안 필요한 장비와 부품의 종류·수량을 미리 제출하면, 정부가 이를 심사해 일괄적으로 수출을 허용하는 구조다. 절차상으로는 VEU보다 까다롭지만, 장비 반입 때마다 허가를 기다려야 하는 불확실성에 비하면 운영 안정성은 크게 높아진다. 실제로 삼성전자와 SK하이닉스는 내년 장비 반입 계획을 확정할 수 있게 됐고, 중국 공장 가동 차질 가능성도 상당 부분 해소됐다.

다만 이번 조치가 '완전한 안도'로 이어지지는 않는다. 매년 필요한 장비와 부품을 정확히 예측해 사전에 신청해야 하는 구조 자체가 경영 부담이기 때문이다. 반도체 공정은 미세화·고도화 속도가 빠르고, 예상치 못한 장비 교체나 긴급 보완 수요가 발생할 가능성도 크다. 연간 계획에 포함되지 않은 장비가 필요해질 경우 다시 허가 문제에 직면할 수 있다는 점에서 불확실성은 여전히 남아 있다.

또 하나의 한계는 중국 내 공장 확장과 공정 업그레이드에 대한 제한이 유지된다는 점이다. 미국 정부는 현상 유지 수준의 장비 반출은 허용하되, 생산능력 확대나 기술 고도화로 이어질 수 있는 투자는 불허한다는 기존 원칙을 고수하고 있다. 이는 중국 내 생산기지를 ‘유지용 거점’으로 묶어두겠다는 미국의 전략적 의도가 반영된 조치로 해석된다.

이번 결정은 미·중 기술 패권 경쟁의 틀 속에서 한국 반도체 기업이 처한 현실을 상징적으로 보여준다. 미국은 동맹국 기업의 경영 혼란을 최소화하면서도, 중국의 반도체 기술 고도화를 억제하려는 미세 조정에 나선 모습이다. 한국 기업 입장에서는 단기 운영 리스크를 줄였다는 점에서 긍정적이지만, 중장기 전략의 불확실성은 여전히 부담으로 남는다.

업계 관계자는 "중국 공장이 갑작스러운 운영 중단이나 심각한 혼란을 겪는 상황은 피했다는 점에서 불행 중 다행"이라면서도 "미·중 갈등이 구조화된 만큼, 중국 생산기지의 역할과 글로벌 투자 전략을 다시 짜야 하는 과제는 계속될 것"이라고 말했다.